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This book is proposed to develop an SOI (Silicon on Insulator) LDMOS in which a drift region of 1- m is added to a conventional n-MOS and compare them on various aspects. The drift region utilizes the RESURF effect that is utilized to distribute the electric field into the LDD region. It is found using two dimensional simulations that the addition of a drift region of 1- m in LDMOS improves the performance of the device in terms of breakdown-voltage and switching-speed over the conventional MOS ...

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DETAILS

  • An SOI LDMOS For Better Switch Application
  • Electron Devices
  • Biswas, Arindam, Rafique, Arzoo, Bhattacharjee, Anup Kumar
  • Kartoniert, 84 S.
  • Sprache: Englisch
  • 220 mm
  • ISBN-13: 978-3-659-40675-1
  • Titelnr.: 40038174
  • Gewicht: 2000 g
  • LAP Lambert Academic Publishing (2013)
  • Herstelleradresse

    LAP Lambert Academic Publishing

    Brivibas gatve 197

    1039 - LV Riga

    E-Mail: customerservice@vdm-vsg.de

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